Vertikales Wärmebehandlungssystem VF-5900
Typenbezeichnung VF-5900 / JTEKT Co., Ltd. (Offizielle Website) / Auf Seite 1 des Dokuments
Vertikales Wärmebehandlungssystem für 300-mm-Wafer, geeignet für Oxidation, Diffusion, LP-CVD und weitere Prozesse.
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Spezifikationen
| Kompatibler Waferdurchmesser | 300 mm |
|---|
Merkmale
- Reinraumtauglich
- Für 300-mm-Wafer geeignet
Anwendungen
- Oxidation
- Diffusion
- LP-CVD
Häufige Fragen
- Q. Für welche Prozesse kann der VF-5900 eingesetzt werden?
- A. Der VF-5900 ist ein vertikales Wärmebehandlungssystem für verschiedene Prozesse wie Oxidation, Diffusion und LP-CVD.
- Q. Welchen Waferdurchmesser unterstützt der VF-5900 und welche Merkmale hat er?
- A. Der unterstützte Waferdurchmesser beträgt 300 mm. Das System ist reinraumtauglich.
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Quelldokumente
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Katalog
半導体製造工程内で活用できる製品シリーズ ①②
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Gefunden in: https://koyo.jtekt.co.jp/support/catalog-download/
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JTEKT Co., Ltd.