Catalog Searcher
Kategori
🌐 Bahasa Indonesia

Sistem Pemrosesan Termal Vertikal VF-5900

Model VF-5900 / JTEKT Corporation (Situs web resmi) / Tercantum di halaman 1 dokumen

Sistem pemrosesan termal vertikal untuk wafer 300 mm yang mendukung berbagai proses seperti oksidasi, difusi, dan LP-CVD.

Terakhir diverifikasi: (tanggal konten diverifikasi dengan dokumen sumber)

Sistem Pemrosesan Termal Vertikal VF-5900 di halaman 1 dari "半導体製造工程内で活用できる製品シリーズ ①②" JTEKT Corporation
Sumber: JTEKT Corporation「半導体製造工程内で活用できる製品シリーズ ①②」halaman 1
Gambar halaman terkait dikutip dari dokumen dalam ukuran yang diperkecil. Hak cipta milik JTEKT Corporation.Minta penghapusan

Spesifikasi

Diameter wafer yang didukung 300 mm

Fitur

  • Kompatibel dengan ruang bersih
  • Kompatibel dengan wafer 300 mm

Aplikasi

  • Oksidasi
  • Difusi
  • LP-CVD

FAQ

Q. Untuk proses apa VF-5900 dapat digunakan?
A. VF-5900 adalah sistem pemrosesan termal vertikal yang mendukung berbagai proses seperti oksidasi, difusi, dan LP-CVD.
Q. Berapa diameter wafer yang didukung VF-5900 dan apa saja fiturnya?
A. Diameter wafer yang didukung adalah 300 mm. Fitur utamanya adalah kompatibilitas dengan ruang bersih.

Ditulis oleh AI berdasarkan isi dokumen sumber.

Dokumen sumber

Produk lain dari JTEKT Corporation

Lihat semua →