Catalog Searcher
Danh mục
🌐 Tiếng Việt

Hệ thống xử lý nhiệt kiểu đứng VF-5900

Mã sản phẩm VF-5900 / Công ty Cổ phần JTEKT (Trang web chính thức) / Có trong trang 1 của tài liệu

Hệ thống xử lý nhiệt kiểu đứng dùng cho wafer 300 mm, hỗ trợ nhiều quy trình như oxy hóa, khuếch tán và LP-CVD.

Xác minh lần cuối: (ngày xác minh nội dung với tài liệu nguồn)

Hệ thống xử lý nhiệt kiểu đứng VF-5900 trên trang 1 của tài liệu "半導体製造工程内で活用できる製品シリーズ ①②" (Công ty Cổ phần JTEKT)
Nguồn: Công ty Cổ phần JTEKT「半導体製造工程内で活用できる製品シリーズ ①②」trang 1
Hình ảnh thu nhỏ của trang liên quan được trích từ tài liệu. Bản quyền thuộc về Công ty Cổ phần JTEKT.Yêu cầu gỡ bỏ

Thông số kỹ thuật

Đường kính wafer tương ứng 300 mm

Đặc điểm

  • Tương thích phòng sạch
  • Hỗ trợ wafer 300 mm

Ứng dụng

  • Oxy hóa
  • Khuếch tán
  • LP-CVD

Câu hỏi thường gặp

Q. VF-5900 có thể sử dụng cho những quy trình nào?
A. Đây là hệ thống xử lý nhiệt kiểu đứng hỗ trợ nhiều quy trình như oxy hóa, khuếch tán và LP-CVD.
Q. Đường kính wafer tương thích và đặc điểm của VF-5900 là gì?
A. Đường kính wafer tương thích là 300 mm. Sản phẩm có đặc điểm tương thích phòng sạch.

Do AI soạn dựa trên nội dung của tài liệu nguồn.

Tài liệu nguồn

Sản phẩm khác của Công ty Cổ phần JTEKT

Xem tất cả →